第8期

發刊日期:2013/01/01

認證報導
TAF Newsletter
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實驗室認證處/廖鶯鶯、陳超榮
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研討會/訓練

技術委員會(Technical Committee) 會議

本會實驗室認證處依據國際規範與相關要求,以優秀精簡之人力為核心,結合國內認同TAF 使命的各類技術領域之專業人士,成立技術委員會。委員們藉由每年定期一次會議的舉行,能齊聚一堂,審查技術規範或技術指引,討論技術議題、規劃未來認證項目的開發等。以建立及提昇認證之公信力,而認可實驗室出可信賴之測試及校正結果,可以獲得國內外承認與接受,進而促進民生福祉、社會安定及經貿發展。

校正領域 (2012/12/13 新竹)

今年校正領域技術委員會會議於12 月 13 日在新竹舉行,有 22 位委員與會,是近年來出席率最高的一次,可見委員們對此會議的重視程度。

校正領域技術委員會 (2012/12/13 新竹) 校正領域技術委員會 (2012/12/13 新竹)

本次會議的工作報告及議題討論包括:

  • 校正實驗室的認可現況及能量,以及測試實驗室對校正的潛在需求。
  • TAF 規範之新訂/ 修訂文件,包括已審查完成規範( 共通性: 四份;校正領域: 五份),以及後續進行的五份文件之狀況。
  • 校正領域認證特定規範 (TAF-CNLA-T01),及校正實驗室出具認證標誌之校正報告的表達方式。
  • 量測不確定度之政策 (TAF-CNLA-R06) 及校正報告格式範例指引(TAF-CNLA-G27) 在評鑑上的做法。
  • TAF 如何配合實驗室一起廣宣認可校正實驗室。

整體而言,與會委員們熱烈討論並一致強調TAF 認證規範及要求不宜過度放寬,以維持TAF 實驗室之品牌形象、防止校正報告被誤用或有心人士的移花接木。

電性與光學領域 (2012/11/15 台北)

2012 年電性與光學領域年度技術委員會,分別於2012/11/15 的上午與下午召開會議。TAF 電光領域負責人盛念伯經理,對於電性與光學領域在2012 年的發展現況與完成工作進行報告。並且對於下一年度(2013) 規劃之工作,提請技術委員提供相關建議與改進之方向。以下將簡單介紹領域的重要成果:

電性[左] 與光學[右] 領域技術委員會 (2012/11/15 台北) 電性[左] 與光學[右] 領域技術委員會 (2012/11/15 台北)

電性技術委員會

主管機關的代表委員,肯定TAF 配合主管機關於2012 年完成之多項業務,並表示嘉許與感謝。但面對申請評鑑的家數及技術類別的快速成長,TAF 的人力( 包括內部與外部) 也應對應成長,以維持認證品質。另因應海外實驗室的評鑑成長,TAF 也應加強具外語溝通能力之評鑑人力,確認有足夠之專業人力可進行海外評鑑。TAF 表示為達到此目標,未來將擴大辦理評審員在職與初始訓練,提升評審員的素質與數量,以維持評鑑的品質並加快服務速度。

光學領域技術委員會

部分委員期望認證機構在後市場管理機制上可扮演更積極之角色。而其中有關參與能力試驗活動,可確保不同實驗室間專業度的一致性,是非常必要之實驗室管理工具。TAF 表示依新版TAFCNLA-R05 中,已納入光通量測試作為強制項目。委員亦表示認同;而針對實驗室管理部份,TAF會加強與落實對實驗室的進行不定期抽查,以維持認驗證體系之健全。

總體來說,電光領域的技術委員,對於TAF 這一年的努力與付出都予以肯定,並期望TAF 能夠持續維持並提升認證的品質。委員們期許TAF 能走向國際化,讓更多國內外主管機關、國際組織與產業界,了解並運用TAF 的認證工作,進而讓普羅大眾了解認證帶來之價值。

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